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應(yīng)用范圍：MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子，帶電離子經(jīng)過(guò)電場(chǎng)加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來(lái)，同時(shí)產(chǎn)生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來(lái)的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運(yùn)動(dòng)，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。

應(yīng)用范圍：MSK-PSE-EC1515-D共蒸六源鈣鈦礦真空鍍膜儀配備6組蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料，也可同時(shí)共蒸2種材料如：Cu、Ag、PbI2、CsBr等材料；設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作，采用前滑動(dòng)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。

應(yīng)用范圍： MSK-PSE-EC1515六源真空蒸鍍儀配備3組有機(jī)束源式蒸發(fā)源爐+3組舟式蒸發(fā)源，可蒸鍍切換最多6種有機(jī)材料如：Cu、Ag、C60、NPB、TPBi等材料；設(shè)備可與手套箱對(duì)接方便在手套箱中操作，采用前滑動(dòng)開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)。設(shè)備廣泛應(yīng)用于高校、科研院所的教學(xué)、科研實(shí)驗(yàn)以及生產(chǎn)型企業(yè)前期探索性實(shí)驗(yàn)及開(kāi)發(fā)新產(chǎn)品等。

應(yīng)用范圍：PCE-22-LD是一款可加熱的紫外臭氧清洗機(jī)，其加熱溫度可達(dá)150℃。此款設(shè)備可用于清洗各種基片，為制作高質(zhì)量的薄膜打好基礎(chǔ)。特別適合移除光刻膠，改善表面潤(rùn)濕性，清洗SEM＆TEM，紫外對(duì)聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一種無(wú)酸、干燥對(duì)材料無(wú)損傷的原子級(jí)別清洗手段，特別適合清除一些有機(jī)化合物，紫外燈主要發(fā)出兩種波長(zhǎng)的光：185nm和254nm，其中185nm的光可把空氣中的氧氣變?yōu)槌魵?/p>

--小型等離子清洗機(jī) 應(yīng)用范圍：PCE-6小型等離子清洗機(jī)的等離子腔體為Ø160mm×190mm的石英腔體，采用的射頻電源功率3.0MHz（1%），輸出功率7.2W、10.2W、29.6W三檔可調(diào)。本機(jī)主要是通過(guò)空氣、氧氣或氬氣等氣體的等離子體來(lái)去除基片上的氧化層和污染物，同時(shí)也可改變物體表面的性質(zhì)（如親水和疏水性等），對(duì)于基片的清洗以及薄膜處理是較為理想的設(shè)備。