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1200℃多坩堝同時移動型管式爐

1200℃多坩堝同時移動型管式爐

簡要描述:OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐,通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟,并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱,并且通過對各個溫區(qū)設置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。
OTF-1200X-Ⅱ-S2 1200℃多坩堝同時移動型管式爐

產(chǎn)品型號: OTF-1200X-Ⅱ-S2

所屬分類:多溫區(qū)管式爐

更新時間:2024-11-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹

OTF-1200X-Ⅱ-S2  1200℃多坩堝同時移動型管式爐是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐,通過升降雙通道進料系統(tǒng)可裝載4個不同材料的蒸發(fā)坩堝舟,并且可一次同時送入兩個蒸發(fā)坩堝源進入管式爐中進行共蒸發(fā)或反應蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實現(xiàn)快速加熱,并且通過對各個溫區(qū)設置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進拉出,實現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應蒸發(fā),特別適用于多層二維晶體材料的制備。

 性能指標和基本配置
管式爐● 雙溫區(qū)管式爐:兩個獨立的溫控系統(tǒng)對每個溫區(qū)進行獨立控溫
● 電壓:220V AC 50/60Hz
● 功率:3KW
● 加熱區(qū)長度:440mm
● 恒溫區(qū)長度:300mm
● 溫度曲線圖(兩個溫區(qū)設置在800℃時所測,僅供參考)(可點擊圖片查看詳細資料)

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● 爐管材料:高純石英管

● 標配爐管尺寸:Φ100(外)×Φ94(內(nèi))×640(長)
● 最高工作溫度:1200℃(<1h)
● 連續(xù)工作溫度:1100℃
● 控溫精度:±1℃
● 推薦升溫速率:10℃/min
坩堝推送機構(gòu)(升降雙通道進料系統(tǒng))● 一根鎧裝熱電偶通過左端法蘭通入爐管內(nèi)部,并與坩堝相連接,實現(xiàn)溫度的實時監(jiān)測(如圖1)
● 升降雙通道進料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中,上方采用不銹鋼真空法蘭進行密封,兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進裝置及管式爐進行連接,保證進料在真空狀態(tài)或者氣氛保護狀態(tài)下進行運作(圖2)
● 進料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個獨立小石英管(圖3)
● 在升降雙通道進料系統(tǒng)中最多可放入4個坩堝(圖4),利用推送系統(tǒng)可交替將4個不同蒸發(fā)源單個依次送入石英管中,也可將放入不同材料的2個坩堝蒸發(fā)源一同送入,分別精確的推入兩個獨立的小石英管中(圖5),找到所需的蒸發(fā)溫度處進行共蒸發(fā)或者反應蒸發(fā),保證實驗的重復性以及穩(wěn)定性(圖6)
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坩堝推送控制系統(tǒng)● 采用PLC觸摸屏控制
● 通過一步進電機控制坩堝的移動速度和位置,進樣位置和速度可調(diào)
● 可控制坩堝最小移動位移為1mm
● 坩堝最大移動距離為200mm
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真空表機械壓力表+數(shù)顯壓力表
真空泵真空度:10E-2 torr(采用機械泵),10-E5 torr(采用分子泵)
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混氣系統(tǒng)● 此套設備中配有一2路混氣系統(tǒng)
● 最大輸出功率:18W
● 工作溫度:5-45℃
● 精度:±1%FS
● 質(zhì)量流量計量程:1:0-100sccm 2:1-199sccm
● 可根據(jù)客戶要求選購1-5路供氣系統(tǒng)
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水冷系統(tǒng)標配一16L循環(huán)水冷系統(tǒng)
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尺寸2600mm(L) x 600mm(W) x 900mm(H)
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質(zhì)保期一年質(zhì)保期,終生維護
質(zhì)量認證● CE認證
● 所有電器元件(>24V)都通過UL?/?MET?/?CSA認證
● 若客戶出認證費用,本公司保證單臺設備通過德國TUV認證或CAS認證
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使用注意事項● 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa
● 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全
● 當爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當,保持在常壓狀態(tài)
● 進入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對加熱石英管的沖擊
● 石英管的長時間使用溫度<1100℃
● 對于樣品加熱的實驗,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)
應用舉例● 此款管式爐具有多種用途:
● 熱蒸發(fā):將蒸發(fā)料放入坩堝中,通過移動坩堝來精確找到所需蒸發(fā)溫度
● HPCVD:通入反應氣體實現(xiàn)反應蒸發(fā)沉積
● 共蒸發(fā)沉積或反應蒸發(fā)沉積:利用*的雙通道進料裝置可以實現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時送入,實現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應蒸發(fā)沉積
● 多層二維晶體:此套設備可以實現(xiàn)多層二維晶體的制備(硒化物硫化物等),操作方便簡單,實驗更具精確性、重復性。







OTF-1200X-Ⅱ-S2  1200℃多坩堝同時移動型管式爐

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