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雙靶磁控濺射儀

雙靶磁控濺射儀

簡要描述:VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個(gè)靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個(gè)采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導(dǎo)電,合金,半導(dǎo)體,陶瓷,介電,光學(xué),氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

產(chǎn)品型號: VTC-600-2HD

所屬分類:等離子鍍膜設(shè)備

更新時(shí)間:2024-11-05

廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

詳情介紹

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是一款帶有兩個(gè)靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個(gè)靶頭采用直流(DC)

濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個(gè)采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,

制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或

多層薄膜,如鐵電、導(dǎo)電,合金,半導(dǎo)體,陶瓷,介電,光學(xué),氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備

體積較小操作方便,是一套理想的實(shí)驗(yàn)工具。

性能指標(biāo)和基本配置
主要參數(shù)

● 輸入電源:220V AC 50/60Hz
● 功率:<2KW(包含真空泵)
● 濺射電源:安裝有兩個(gè)濺射電源:
● 直流(DC)電源:500W,針對于制作金屬膜
● 射頻(RF)電源:300W,可制作氧化物和金屬膜
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主要特點(diǎn)

● 體積小,操作簡便
● 真空腔室、真空泵組整機(jī)模塊化設(shè)計(jì),控制電源為分體式設(shè)計(jì),可根據(jù)用戶實(shí)際需要調(diào)整購買需求。
● 可根據(jù)用戶實(shí)際需要選擇電源,可以一個(gè)電源控制多個(gè)靶槍,也可多個(gè)電源單一控制靶槍,購買前請聯(lián)系我公司銷售。

磁控濺射頭

● 儀器中安裝有2個(gè)2英寸磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層(圖一)
● 一個(gè)濺射頭與射頻電源相連接,主要是濺射絕緣性靶材
● 另一個(gè)濺射頭與直流電源相連接,主要濺射導(dǎo)電性靶材
● 靶材尺寸要求:直徑為50mm,厚度0.1-5mm(因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同)
● 可以單獨(dú)訂購RF連接線作為備用(圖二)
● 設(shè)備包含一臺水冷機(jī),用于靶頭冷卻(圖三)
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載樣臺

● 載樣臺尺寸:φ140mm(最大可放置4"的基底)
● 載樣臺可以旋轉(zhuǎn),其速度為:1 - 20 rpm (可調(diào))
● 載樣臺最高可加熱溫度為500℃
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真空腔體

● 真空腔體:φ300 mm  x 300 mm H,采用不銹鋼制作
● 觀察窗口:φ100 mm
● 腔體打開方式采用上頂開,使得換靶更加容易

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氣體流量控制器

● 儀器內(nèi)部安裝有2個(gè)質(zhì)量流量計(jì),量程為:0-100sccm
● 氣體流量設(shè)置可以在6英寸的觸摸屏上進(jìn)行操作
● 此系統(tǒng)運(yùn)行需要Ar氣,并且氣瓶上安裝有減壓閥(設(shè)備中不包含)
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真空系統(tǒng)

● 配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作)
● 標(biāo)準(zhǔn)5E-5mbar 極限7.4E-6mbar(僅供參考,詳情請點(diǎn)擊)
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薄膜測厚儀(可選)

● 一個(gè)精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?
● LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)
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產(chǎn)品尺寸

L 1300mm× W 660mm× H 1200mm

凈重160 kg
使用提示

● 此設(shè)備為DIY設(shè)備,參數(shù)變化較大購買前請務(wù)必電話仔細(xì)溝通
● 為了得到較好的薄膜質(zhì)量,必須通入高純氣體(建議> 5N)
● 在濺射鍍膜前,確保濺射頭、靶材、基片和樣品臺的潔凈
● 要達(dá)到薄膜與基底良好結(jié)合,請?jiān)跒R射前清潔基材表面
● 超聲波清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):(1)丙酮超聲(2)異丙醇超聲-去除油脂(3)吹氮?dú)飧稍铮?)真空烘箱除去水分。
● 等離子清洗(詳細(xì)參數(shù)點(diǎn)擊下面圖片):可表面粗糙化,可激活表面化學(xué)鍵,可祛除額外的污染物。
● 制造一個(gè)薄的緩沖層(5納米左右):如Gr,Ti,Mo,Ta,可以應(yīng)用于改善金屬和合金的附著力
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警告

● 注意:產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件,禁止私自拆裝,帶電移動機(jī)體。
● 氣瓶上應(yīng)安裝減壓閥(設(shè)備標(biāo)配不包括),保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下,以安全使用。
● 濺射頭連接到高電壓。為了安全,操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶

認(rèn)證

CE認(rèn)證

保修期一年保修,終身技術(shù)支持。
特別提示:
1.耗材部分如加熱元件,石英管,樣品坩堝等不包含在內(nèi)。
2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)
點(diǎn)擊查看售后服務(wù)承諾書。




VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

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