鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

產(chǎn)品型號：

更新時間：2025-02-17

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

訪問量：1706

服務(wù)熱線

0755-26959531

立即咨詢

產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

薄膜制備設(shè)備

等離子鍍膜設(shè)備蒸發(fā)鍍膜設(shè)備靜電紡絲/噴涂設(shè)備提拉涂膜機(jī) 配件與耗材

相關(guān)文章

在醫(yī)藥行業(yè)，真空干燥箱常用于制備藥物和醫(yī)療器械

產(chǎn)品介紹

鈣鈦礦鍍膜機(jī)主要由有機(jī)/金屬源蒸發(fā)沉積室、真空排氣系統(tǒng)、真空測量系統(tǒng)、蒸發(fā)源、樣品加熱控溫、電控系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)等部分組成。適用于制備金屬單質(zhì)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、氧化物薄膜、有機(jī)薄膜等，可用于科研單位進(jìn)行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作，廣泛應(yīng)用于有機(jī)、無機(jī)、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領(lǐng)域。

功能特點

樣品位于真空室上方，蒸發(fā)源位于真空室下方，向上蒸發(fā)鍍膜，且蒸發(fā)源帶有擋板裝置。
設(shè)有烘烤加熱功能，可在鍍膜過程中加熱樣品，MAX烘烤加熱溫度為180℃。
設(shè)有斷水、斷電連鎖保護(hù)報警裝置及防誤操作保護(hù)報警裝置。

技術(shù)參數(shù)
鍍膜室	● 不銹鋼材料，采用方形前后開門結(jié)構(gòu)，內(nèi)帶有防污板，腔室尺寸約為600mm×450mm×450mm
真空排氣系統(tǒng)	● 采用分子泵+機(jī)械泵系統(tǒng)
真空度	● 鍍膜室極限真空≤6×10-4Pa
系統(tǒng)漏率	● ≤1×10-7Pa
蒸發(fā)源	● 安裝在真空室的下底上；有機(jī)蒸發(fā)源4個、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，可測溫、控溫，加熱溫度400℃，功率0.5KW；無機(jī)蒸發(fā)源4套、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2KW；蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式控制其開啟
樣品架	● 安裝在真空室的上蓋上，可放置?120mm的樣品、載玻片，旋轉(zhuǎn)速度0-30rpm
加熱溫度	● RT-180℃，測溫、控溫
膜厚控制儀	● 石英晶振膜厚控制儀，膜厚測量范圍0-999999?

鈣鈦礦鍍膜機(jī)

免責(zé)聲明：本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容（包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等），僅供參考?？赡苡捎诟虏患皶r，或許導(dǎo)致所述內(nèi)容與實際情況存在一定的差異，請與本公司客服人員聯(lián)系確認(rèn)。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾，科晶公司不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息，恕不另行通知。

上一個：OTF-1200X-RTP-II-5-R 5英寸旋轉(zhuǎn)蒸發(fā)鍍膜爐