應用范圍：MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子，帶電離子經(jīng)過電場加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來，同時產(chǎn)生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運動，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。

產(chǎn)品型號：MSK-PSS-MC1010

更新時間：2025-02-18

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

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鈣鈦礦太陽能電池制備

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MSK-PSS-MC1010磁控濺射儀可在襯底基片上濺射一層薄膜，原理是由惰性工藝氣體產(chǎn)生輝光放電現(xiàn)象生成帶電離子，帶電離子經(jīng)過電場加速后轟擊固體靶材表面，使靶材表面原子和分子被轟擊飛濺出來，同時產(chǎn)生二次電子，再次撞擊氣體原子而形成更多的帶電離子，從靶材濺射出來的粒子在低壓氣氛中向硅片作渡越運動，碰撞到襯底基片上并被基片吸附，最終凝聚在襯底形成需要的薄膜。

磁控濺射儀功能特點

設備設計緊湊，可與手套箱對接；
極限真空度優(yōu)于5E-5Pa（干燥環(huán)境），濺射尺寸兼容多種規(guī)格，最大為100*100mm，并支持基片旋轉速度0～30rpm連續(xù)可調(diào)；
采用不銹鋼真空室，內(nèi)部電拋光處理，配備觀察窗、靶槍及擋板轉軸等；
真空系統(tǒng)采用“分子泵+機械泵"組合，具有高效的抽速和完善的真空測量系統(tǒng)；
氣體控制方面，具備3路進氣并可通過流量計精確控制；
配有3個共焦向上濺射的圓形靶槍，可支持低氣壓濺射以減小二次電子損傷；
設備提供旋轉加熱工件臺，可調(diào)節(jié)轉速、加熱溫度以及與靶之間的距離

技術參數(shù)
電源		三相五線制AC380V±10%，頻率：50Hz，總功率約6KW
氣源		壓縮空氣：干燥、干凈、無水、無油的壓縮空氣，8mm塑料氣管，壓力5.5～6公斤（0.55-0.6Mpa）普通氮氣：干燥氮氣，用于設備腔室破真空，8mm塑料氣管，壓力1-2公斤（0.1-0.2Mpa）工藝氣體：高純，99.999%，共兩路工藝氣體，6mm不銹鋼管，其中一路為高純氬氣，壓力1～2公斤（0.1-0.2Mpa），另外兩路工藝氣體按工藝需求準備
水源		流量15-20升/分鐘水溫15～25℃，進水和出水壓差1～2公斤，進水壓力2～3公斤，設備的進水和出水口外徑12mm （建議在設備的進水口前安裝一個球閥，方便調(diào)節(jié)水壓和水流量）
真空室		304不銹鋼真空室，內(nèi)部電拋光前后開門，門上有1個80mm觀察窗，帶擋板，防輻射底部安裝3個靶槍及擋板轉軸側壁及底部有備用法蘭接口以備將來使用可拆卸不銹鋼內(nèi)襯，手擰拆卸方便清理
真空系統(tǒng)	組成	分子泵+機械泵組合式真空系統(tǒng)，氣動閥門分子泵：中科科儀分子泵FF200/1300，抽速：1300L/s 機械泵：鮑斯BSV-30機械泵，抽速：9L/s 真空閥門：型號：DN40mm 擋板閥2套；主閥DN200 1套，可調(diào)限流閥1套，進口薄膜真空計1套，量程0.0001torr-0.1torr，自動調(diào)壓真空密封：可拆靜密封采用氟橡膠圈密封，不常拆靜密封采用無氧銅密封
	真空極限	真空極限優(yōu)于5×10－5Pa（干燥環(huán)境）
	抽速	抽氣時間：大氣壓～工作真空（5*10-4Pa），約20min（對接手套箱氮氣環(huán)境）
	真空計	1個兩低一高2個真空計，測量范圍：大氣到1E-5Pa
氣體控制		3路進氣，采用Horiba Metron（中日合資）流量計控制進氣，流量計最大流量分別為200/100/50sccm，兩路氣體經(jīng)過流量計后混合，混合后導入真空室靶面
濺射靶槍		3個2英寸圓形靶槍，共焦向上濺射靶槍和工件距離80-120mm，可調(diào)節(jié) 每個靶槍帶一個獨立的電控氣動擋板可實現(xiàn)低氣壓濺射，減小二次電子損傷樣品基底
濺射電源		1臺G-POWER功率500W自動匹配射頻電源：最大輸出功率500W，頻率13.56MHz，輸出采用功率控制模式，自動匹配，匹配時間短，反射功率小于3W； 1臺北京持動力直流濺射電源：最大輸出功率500W，輸出可切換采用功率控制模式，恒流模式，恒壓模式，電源帶完善的異常打火，短路等保護功能耐用易用
旋轉加熱工件臺		最大可放置襯底基片樣品尺寸：100mm*100mm，兼容3英寸、2英寸、φ45mm、φ30mm，以及小尺寸方形片（對角線長度小于45mm）基片轉速0-30rpm連續(xù)可調(diào)，旋轉軸水冷保護轉軸磁流體密封樣品臺加熱溫度：最高溫度500℃，控溫誤差±1℃ 樣品臺和靶之間距離采用焊接波紋管密封電動可調(diào)，帶刻度顯示成膜質(zhì)量：樣品范圍內(nèi)均勻性優(yōu)于±5%
控制系統(tǒng)		西門子PLC+西門子觸摸屏手自動控制系統(tǒng) 控制內(nèi)容：機械泵，分子泵，氣動、電磁閥門、流量計等等；自動抽真空，自動排氣等完整的互鎖保護（硬件、軟件互鎖）
真空室尺寸		約W400D400H450mm
外形尺寸		約W780D930H1820mm